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ECSE 485 IC Fabrication Laboratory (2 unités)

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Offert par : Génie électr. et informatique (Génie et l'architecture)

Vue d'ensemble

Génie électrique : Essential processes for silicon semiconductor device fabrication: etching, diffusion, photolithography. Fabrication of large area PN junctions, selective area PN junctions and MOSFETs. Design and fabrication of simple MOS circuits. Electrical characterization of devices and circuits.

Trimestres : Ce cours n’est pas au programme de l’année universitaire 2011-2012.

Chargés de cours : Aucun professeur n’est associé à ce cours pour l’année universitaire 2011-2012.

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